)张卫
张卫姓 名： 张卫
任教专业： 理学-电子信息科学类
在职情况： 在
性 别： 男
所在院系： 信息科学与工程学院微电子学系
1999年5月－今，复旦大学微电子学系教授
2001年2月－2002年5月，德国开姆尼茨技术大学访问学者（洪堡基金）
1997年5月－1999年4月，复旦大学电子工程系副教授
1995年6月－1997年4月，复旦大学电子工程系博士后
1991年9月－1995年5月，西安交通大学电气工程系博士研究生
1988年9月－1991年6月，西安交通大学电气工程系硕士研究生
1984年9月－1988年7月，西安交通大学电气工程系本科生
自1995年以来主持和参加了“863”高技术项目、国家自然科学基金、教育部博士点基金、教育部骨干教师资助计划等10个项目的研究工作。
1999年5月担任第1届亚洲化学气相淀积国际学术会议主席，是2001年5月在韩国举行的第2届亚洲化学气相淀积国际学术会议顾问委员会成员，2000年担任国际学术期刊ThinSolidFilms（Elsevier出版）的GuestEditor。自1997年以来是科学通报，ChinesePhysicsLetters,电子学报，ThinSolidFilms等期刊的审稿人。
1999年获得上海市高校优秀青年教师称号，上海市优秀博士后和复旦大学复华奖等。
自1991年以来发表学术论文121篇，其中包括SCI和EI收录论文60余篇，出版著作1部（第2作者），2002年获得国家发明专利1项
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1.Shi-JinDing,MinZhang,WeiChen,DavidWeiZhang,RichardL.K.Wang,X.P.Wang,ChunxiangZhu,Ming-FuLi,Highdensityandprogram-erasablemetal-insulator-siliconcapacitorwithanoveldielectricstructureofSiO2/HfO2-Al2O3nanolaminate/Al2O3,AppliedPhysicsLetters，88(4),042905,2006.
2.Shi-JinDing,ChunxiangZhu,Ming-FuLi,DavidWeiZhang,Atomic-layer-depositedAl2O3–HfO2–Al2O3dielectricsformetal-insulator-metalcapacitorapplications,AppliedPhysicsLetters,87(5),053501,2005
半导体材料(本科生)
微电子材料与工艺理论（研究生）
纳米电子学与信息技术（研究生）
先进铜互连技术（工程硕士）
亚100纳米器件先进高k栅介质；
ULSI中低介电常数介质和铜互连；
微电子材料与工艺，薄膜技术，半导体器件；
原子层化学气相淀积（ALCVD）；
低压气相生长金刚石薄膜；
张卫教授教学评价： http://pinglaoshi.com/teacherId313657
