)全息光栅
平面全息光栅
全息光栅光路图在光学稳定的平玻璃坯件上涂上一层给定型厚度的光致抗蚀剂或其他光敏材料的涂层。由激光器发生两束相干光束，使其在涂层上产生一系列均匀的干涉条纹，则光敏物质被感光。然后用特种溶剂溶蚀掉被感光部分，即在蚀层上获得干涉条纹的全息像，所制得为透射式衍射光栅。如在玻璃坯背面镀一层铝反射膜后，可制成反射式衍射光栅。这种方法制造的光栅线槽密度高，划面宽度大，刻线可达3663～4234条/mm，面积可达165×320mm2。
全息光栅制作装置1.无鬼线，杂散光极小。
2.衍射效率较低，全息光栅的槽形通常为近似正弦波形，这种槽形不具备闪耀条件，没有明显的闪耀特性。据称，采用“离子蚀刻”技术的全息光栅，使光栅衍射效率得到较大提高。
3.分辨率高。由于全息技术使光栅刻线总数大幅度增加，因此色散率、分辨率也大幅度得到提高。
| 吸收带 | 二维核磁共振谱 | 远红外光谱 |
| 原子荧光分析法 | 振动弛豫 | 褶合光谱法 |
1.http://www.bb.ustc.edu.cn/jpkc/guojia/dxwlsy/kj/part2/grade3/Holography.html
2.http://info.laser.hc360.com/2005/12/20092723280.shtml
3.http://www.chemyq.com/xz/xz6/50231dmhnq.htm
